某知名品** Sputtering + E-Beam PVD 鍍膜機(jī)系統(tǒng)采用 HVA 真空閥門 11000, HVA 真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時(shí)外系統(tǒng)停機(jī)時(shí)不破壞系統(tǒng)真空, 只要對(duì)泵內(nèi)部進(jìn)行破真空即可.
HVA 不銹鋼真空閘閥 11000 系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:
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閥門材質(zhì):
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- 閥門主體
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304 不銹鋼
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- 焊接波紋管軸封
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AM - 350
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閥門密封方式
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- 高真空
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氟橡膠
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- 超高真空
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銅墊圈 / 氟橡膠
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真空:
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- 壓力范圍
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高真空 1x10-9 mbar, 超高真空 1x10-10 mbar
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- 漏率
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< 2x10-9 mbar l/S
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- 差壓關(guān)閉
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1 bar ( 任意位置 )
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- 開啟前**大壓力
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≤ 30 mbar
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烘烤溫度（不含電磁閥）:
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- 彈性體密封閥蓋
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150°C
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- 金屬密封閥蓋
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-開啟溫度：200°C
-關(guān)閉值：150°C
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- 驅(qū)動(dòng)方式
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手動(dòng) 60 °c, 氣動(dòng) 60 °c
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機(jī)制
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手動(dòng)：
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手搖曲柄
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電磁閥供電電壓
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120 VAC 50 /60 Hz
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電磁閥可選電壓
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24, 200, 240 VAC 50/60 Hz
或 12, 24 VDC
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電磁閥位置指示器,**大
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115 VAC
或 28 VDC, 20 mA
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氣動(dòng)送風(fēng)：
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80 psig
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使用壽命: 100,000 啟閉次數(shù) (具體視實(shí)際使用情況決定)
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公稱通徑: DN 16 - 800 mm
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E-Beam 鍍膜機(jī)設(shè)備組成: 系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子槍, 進(jìn)樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái), 工作氣路, 抽氣系統(tǒng), 真空測(cè)量, 電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成.
基片在做實(shí)驗(yàn)前一般需要做鍍前預(yù)處理, 鍍前預(yù)處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面, 為**后獲得高質(zhì)量鍍層作準(zhǔn)備, 要進(jìn)行脫脂, 去銹蝕, 去灰塵等工作, 也有客戶在 LOADLOCK 腔進(jìn)行射頻反應(yīng)清洗, 通過使用上海伯東 KRI 離子源將基片的表層打掉, 得到更光滑和均勻的表面.
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