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        KRI 考夫曼射頻離子源成功用于復(fù)合磁控濺射沉積裝置

        起訂量: 面議
        價(jià) 格: 面議
        品牌: KRI
        供貨總量: 面議
        發(fā)貨期限: 自買(mǎi)家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
        所在地: 上海
        有效期至: 長(zhǎng)期有效
        最后更新: 2023-08-14 14:16
        關(guān)注人數(shù): 1214
        公司基本資料信息
        伯東企業(yè)(上海)有限公司
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        地區(qū)上海
        地址上海市外高橋保稅區(qū)希雅路33號(hào)17號(hào)樓B座3層,200131
        • 品牌:
          KRI
        • 發(fā)貨期限:
          自買(mǎi)家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
        • 所在地:
          上海

         OEM 系統(tǒng)集成商在搭建系統(tǒng)-復(fù)合磁控濺射沉積裝置, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 作為濺射源.

         

        KRI 射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):

        射頻離子源型號(hào)

        RFICP380

        Discharge 陽(yáng)極

        射頻 RFICP

        離子束流

        >1500 mA

        離子動(dòng)能

        100-1200 V

        柵極直徑

        30 cm Φ

        離子束

        聚焦平行散射

        流量

        15-50 sccm

        通氣

        Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

        典型壓力

        < 0.5m Torr

        長(zhǎng)度

        39 cm

        直徑

        59 cm

        中和器

        LFN 2000

         

         

        該復(fù)合磁控濺射沉積裝置主要包含:

        1. 濺射源-KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380

        2. 清洗源-KRI 霍爾離子源 eH3000

        3. 高功率脈沖磁控濺射電源

        4. 真空泵- Pfeiffer 分子泵 HiPace700

        5. 基臺(tái)

         

        KRI 離子源的**特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的.

         

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